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抗蚀剂的干法显影技术研究
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摘要
在以前还只是处于想象境地的抗蚀剂干显影(等离子体显影)已展示了实现的可能性。一方面开发了能够干显影的抗蚀剂,另一方面还发展了能对现有抗蚀剂作干显影的新工艺。本文简述了至今为止所发表的抗蚀剂的干显影技术方法和技术动向,也介绍了我们所做的有关工作。
作者
管会
机构地区
电子工业部第四十七研究所
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1994年第1期1-4,共4页
Semiconductor Technology
关键词
等离子刻蚀
抗蚀剂
干显影
工艺
分类号
TN405.98 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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半导体技术
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