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抗蚀剂的干法显影技术研究

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摘要 在以前还只是处于想象境地的抗蚀剂干显影(等离子体显影)已展示了实现的可能性。一方面开发了能够干显影的抗蚀剂,另一方面还发展了能对现有抗蚀剂作干显影的新工艺。本文简述了至今为止所发表的抗蚀剂的干显影技术方法和技术动向,也介绍了我们所做的有关工作。
作者 管会
出处 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1994年第1期1-4,共4页 Semiconductor Technology
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