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提高功率晶体管二次击穿耐量的新思路 被引量:1

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摘要 分析了双极型功率晶体管芯片温度分布与版图设计的相关性,指出版图安排不合理导致芯片中心区域温度偏高,是诱发二次击穿的一个重要原因。提出了一种提高功率晶体管抗热模式二次击穿耐量的新思路。理论分析与实际应用均证明,把发射区安排在基区引线条周边的新设计,可显著改善双极型功率晶体管抗二次击穿特性。
出处 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1994年第1期13-15,共3页 Semiconductor Technology
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