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半绝缘多晶硅在大功率开关管3DK106中的应用
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摘要
介绍了掺氧半绝缘多晶硅(O-SIPOS)及掺氮半绝缘多晶硅(N-SIPOS)薄膜的制备方法、生长条件及其在高可靠大功率开关三极管3DK106中的应用,以及主要电参数的测试结果,并且对本工艺所带来的特点进行了初步分析。
作者
张京俊
邹秋芝
邓子龙
陶广斌
吕秀昭
机构地区
哈尔滨晶体管厂
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1994年第6期45-48,共4页
Semiconductor Technology
关键词
掺氧
半绝缘
多晶硅
大功率开关管
薄膜
分类号
TN313.4 [电子电信—物理电子学]
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半导体技术
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