期刊文献+

半绝缘多晶硅在大功率开关管3DK106中的应用

下载PDF
导出
摘要 介绍了掺氧半绝缘多晶硅(O-SIPOS)及掺氮半绝缘多晶硅(N-SIPOS)薄膜的制备方法、生长条件及其在高可靠大功率开关三极管3DK106中的应用,以及主要电参数的测试结果,并且对本工艺所带来的特点进行了初步分析。
机构地区 哈尔滨晶体管厂
出处 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1994年第6期45-48,共4页 Semiconductor Technology
  • 相关文献

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部