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优质高阻异型厚层硅外延IGBT材料n^—/n^+/p^+

High Quality Thick St Epitaxial Films n ̄-/n ̄+/p ̄+ for IGBT
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摘要 我们的实验研究结果表明,已经在n^-/n^+/p^+的纵向电气与几何参数的最佳理论设计、关键的工艺生长技术和缺陷控制诸主要方面取得了进展,并因此制备了2''-3''100μm厚度的高阻异型镜面硅外延片,且将其成功应用于1300V/20A高性能IGBT的研制。
机构地区 电子科技大学
出处 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1994年第6期388-392,共5页 半导体学报(英文版)
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参考文献1

  • 1Kuo D S,IEEE Electron Device Lett,1986年,7卷,9期,510页

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