基片表面磁场对倾斜焰沉积金刚石膜质量及成膜面积的影响
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3陈大鹏,叶甜春,谢常青,李兵,赵玲莉,韩敬东,胥兴才.LPCVD制备纳米硅镶嵌结构氮化硅膜及其内应力[J].Journal of Semiconductors,2001,22(12):1529-1533. 被引量：14
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4郑庆平,邵丙铣.大功率管Al膜质量的工艺诊断[J].半导体技术,1993,9(2):4-8.
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5徐妙华,李玉同,远晓辉,郑志远,梁文锡,于全芝,张翼,王兆华,魏志义,张杰.飞秒激光与固体靶相互作用中产生表面电子的实验研究[J].中国科学（G辑）,2006,36(2):158-163. 被引量：5
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6董顺乐,丛培杰.注入温度对氧注入制成的SOI膜质量的影响[J].山东大学学报（自然科学版）,1990,25(2):161-165.
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7彭斌,张文旭,蒋洪川,张万里,杨仕清.厚膜永磁阵列表面磁场分布研究[J].固体电子学研究与进展,2005,25(1):133-137. 被引量：2
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8久保雅树,佐佐博政,赵秀英.“IBS—300型”离子束溅射装置[J].微细加工技术,1989(2):88-95.
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9Azusa FUKANO,Akiyoshi HATAYAMA.Electric Potential in Surface Produced Negative Ion Source with Magnetic Field Increasing Toward a Wall[J].Plasma Science and Technology,2013,15(3):266-270.
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10王树忠,丁耀根,王进华.C波段多注速调管电子光学系统的初步设计[J].微波学报,2006,22(4):49-52. 被引量：3
