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新型可焊性锡铈铋镀层电镀工艺 被引量:7

A New Plating Process of Weldable Sn-Ce-Bi Film
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摘要 介绍了新型可焊性锡铈铋镀层电镀工艺的镀液配方和电镀操作条件;测试了镀液的分散能力、阴极电流效率和沉积速率.用铜丝或铜片作镀件,在小槽内电镀,获得的镀层,外观致密均匀,似镜面光亮,结合力强. The bath formuler and the technological conditions of new weldable Sn-Ce-Bi plating are introduced. The dispersive capasity, the cathode current effeciency and the deposition rate are tested. A mirror glossy film on the copper wire or steel sheet is obtained. The uniform and compact film has strong binding force.
出处 《表面技术》 EI CAS CSCD 1994年第1期34-36,共3页 Surface Technology
关键词 可焊性 锡铈铋合金 镀合金 weldable plating, Sn-Ce-Bi alloy
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共引文献8

同被引文献59

引证文献7

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