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等离子体源离子注入技术
被引量：
4
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职称材料
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摘要
介绍了等离子体源离子注入(PSII)的现状、特点、原理和应用效果。
作者
王钧石
陈元儒
黄楠
机构地区
西南交通大学
出处
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
1994年第2期79-80,共2页
Materials Reports
基金
国家"863"重点攻关项目(863-715-23-05)
关键词
等离子体源
离子注入
表面处理
分类号
O53 [理学—等离子体物理]
引文网络
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北京市辐照中民主 北京师范大学低能核物理研究所离子注入研究室.离子注入原理与技术[M].北京:北京出版社,1982.26-28.
7
北京市辐照中心 北京师范大学低能核物理研究所离子注入研究室.离子注入原理与技术[M].北京:北京出版社,1982.26-28.
8
汪泓宏，离子束表面强化，1992年，291页
9
团体著者，离子注入原理与技术，1982年，26页
10
汪泓宏，离子束表面强化，1992年，291页
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材料导报
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