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化学气相淀积在无机新材料制备中的应用 被引量:13

Applications of Chemical Vapor Deposition in Preparation of New Inorganic Materials
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摘要 本文讨论了化学气相淀积在超细粉,纳米复合材料及梯度功能材料制备中的应用,并结合实例分析了化学气相淀积的工艺特性及所制备材料的性能、显微组织特点。 The applications of CVD in the preparations of ultrafine powders,nanocompositers,and functionally gradient materials were discussed,the processing features of CVD,the properties and the microstructures of the materials thus prepared were analyzed with specific examples.
作者 郭新 袁润章
机构地区 武汉工业大学
出处 《材料科学与工程》 CSCD 1994年第1期58-61,65,共5页 Materials Science and Engineering
关键词 化学气相淀积 制备 无机材料 CVD,New lnorganic Materials,Preparation
  • 相关文献

参考文献4

二级参考文献1

  • 1张其土,罗宏慧.示差分光光度法测定SiC中的总硅量[J]哈尔滨工业大学学报,1987(03).

共引文献23

同被引文献171

引证文献13

二级引证文献172

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