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磁性FeSiAl合金薄膜的研究 被引量:4

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摘要 本文对新型薄膜磁头材料FeSiAl合金进行了研究,发现氩压和衬底温度直接影响着膜的结构和磁学性能。当氩压在0.1Pa左右,衬底温度高于250℃时,淀积薄膜具有良好的软磁性能,满足MIG磁头材料要求。
出处 《磁性材料及器件》 CSCD 1994年第2期18-22,共5页 Journal of Magnetic Materials and Devices
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引证文献4

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