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电子束直接光刻设备概况及发展对策
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摘要
本文扼要介绍了电子束直接光刻设备国外概况与国内现状,指出了国内在这一领域的主要差距,并为我国发展该设备提出了建议。
作者
张俊国
刘求益
机构地区
电子工业部第四十八研究所
出处
《电子工业专用设备》
1994年第2期11-14,共4页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词
电子束
光刻设备
微电子技术
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
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1994年 第2期
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