摘要
论述了化学镀Ni—Cr—P合金的可行性,指出:镀液的配制方法对镀层含铬量有较大影响,将Cr ̄(6+)还原为Cr ̄(3+),并形成Cr ̄(3+)活性络离子后再加入镀液,控制其它条件在最佳范围,可使镀层含铬量达1%以上。镀液中的铬合剂、稳定剂对镀层质量、镀层组成、沉积速度有较大影响。化学镀过程中应严格控制pH值,因为它对沉积过程有极大影响。化学镀Ni—Cr—P合金镀层具有较小的电阻温度系数,适用于电子零部件的表面处理。
出处
《电子工艺技术》
1994年第2期8-10,13,共4页
Electronics Process Technology