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Si基TiN薄膜界面的显微结构

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摘要Ｓｉ基ＴｉＮ薄膜界面的显微结构程志英，朱静（冶金部钢铁研究总院，北京１０００８１）离子束增强沉积（ＩＢＥＤ）是指在电子束蒸发或离子束溅射沉积的同时，用一定能量的离子束进行轰击混合，从而合成单质或化合物薄膜。此方法制备的薄膜的性能优于单一的化学汽相沉积...

作者程志英朱静

机构地区冶金部钢铁研究总院

出处《电子显微学报》 CAS CSCD 1994年第6期500-500,共1页 Journal of Chinese Electron Microscopy Society

关键词薄膜硅基氮化钛界面显微结构

分类号 O484 [理学—固体物理] TB43 [一般工业技术]

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二级参考文献2

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电子显微学报

1994年第6期

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