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TiAl中180°孪晶界面附近应力场的LACBED研究

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摘要 TiAl中180°孪晶界面附近应力场的LACBED研究吴文涛,朱 静(治金部钢铁研究总院,北京100081)TiAl金属间化合物具有低密度、高熔点。较高的高温强度和持久强度等性能,在航空航天领域有广阔的应用前景,但其室温塑性差,断裂韧性低,裂纹扩展速...
作者 吴文涛 朱静
出处 《电子显微学报》 CAS CSCD 1994年第6期462-462,共1页 Journal of Chinese Electron Microscopy Society
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