Mo／Si多层膜界面离子束处理及TEM观察

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摘要Ｍｏ／Ｓｉ多层膜界面离子束处理及ＴＥＭ观察薛钰芝Ｒ．Ｓｃｈｌａｔｍａｎｎ，林纪宁Ａ．Ｋｅｐｐｅｌ，Ｊ．Ｖｅｒｈｏｅｖｅｎ（大连铁道学院，大连１１６０２２）（荷兰ＦＯＭ原子分子物理研究所）软Ｘ射线多层膜（ＭｕｌｔｉｌａｙｅｒｓｆｏｒＳｏｆｔＸ－ｒａｙＯ...

作者薛钰芝林纪宁

机构地区大连铁道学院

出处《电子显微学报》 CAS CSCD 1994年第6期466-466,共1页 Journal of Chinese Electron Microscopy Society

关键词薄膜多层膜钼硅界面离子束处理 TEM

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电子显微学报

1994年第6期

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