化学汽相淀积（CVD）设备的使用与维修

下载PDF

导出

摘要化学汽相淀积（ＣＶＤ）设备的使用与维修王焕杰，张克云，陈振昌（复旦大学．上海．２００４３３）自８０年代初开始，化学汽相淀积（简称ＣＶＤ）工艺及其专用设备，在我国半导体器件制造工业中逐渐推广使用。多种ＣＶＤ设备，包括ＬＰＣＶＤ氨化硅／多晶硅，ＬＰＣＶＤ...

作者王焕杰张克云陈振昌

机构地区复旦大学

出处《电子与自动化》 1994年第5期34-36,共3页

关键词化学汽相淀积 CVD设备维修

1设备材料[J].集成电路应用,2007,24(3):20-20.
2SENTECH SI500D等离子沉积系统在中国的第一次安装[J].电子元器件应用,2012,14(3):63-63.
3宋玲,廖炼斌,张勇,罗卫国.LPCVD设备的高精度串级温度控制系统[J].电子工业专用设备,2006,35(4):35-38. 被引量：4
4中微半导体设备公司获得“年度新秀公司奖”[J].中国集成电路,2008,17(11):5-5.
5卧式热壁型PECVD设备[J].中国集成电路,2007,16(7):44-45.
6沈阳科仪以高质量PECVD设备服务半导体业[J].集成电路应用,2008(8):15-15.
7AMEC发布新型蚀刻与CVD设备[J].集成电路应用,2008,25(1):14-14.
8崔军朋,段垚,王晓峰,曾一平.m面蓝宝石衬底上ZnO外延薄膜的性能[J].Journal of Semiconductors,2007,28(z1):157-159.
9纳米硅薄膜及其制备工艺[J].表面技术,2007,36(1):89-89.
10AMAT发布采用UV固化技术的low-k成膜设备[J].机电工程技术,2006,35(8):8-8.

电子与自动化

1994年第5期

浏览历史

内容加载中请稍等...