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井式渗碳炉温度动态控制被引量：3

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摘要本文针对井式气体渗碳炉，提出了炉温动态控制模型，设计了炉温动态控制硬、软件系统，硬件设计采用了新型的集成元件固态继电器触发可控硅，从而大大简化了线路，提高了系统的稳定性。该系统经调试，其控温精度可达±１℃，炉温均匀性达到了±５℃。

作者吴兴文曾祥模张秀莲

机构地区西北工业大学

出处《工业加热》 CAS 1994年第6期11-15,共5页 Industrial Heating

关键词井式气体渗碳炉动态控制控温精度炉温均匀性

分类号 TG156.81 [金属学及工艺—热处理]

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1曾祥模，热处理炉，1989年，20页

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工业加热

1994年第6期

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