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半导体光催化降解实际印染废水的研究
被引量：
27
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摘要
以ＴｉＯ２为半导体催化剂，对实际印染废水在紫外光照射下的降解进行了研究。结果表明在紫外光太阳光照射下，实际印染废水能取得较好的降解效果，经生化处理后的印染废水更易于光催化降解，Ｈ２Ｏ２的加入对印染废水的降解有利。
作者
蒋伟川
俞传明
王琪全
机构地区
浙江大学化学系
出处
《工业水处理》
CAS
CSCD
北大核心
1994年第2期25-27,共3页
Industrial Water Treatment
基金
国家自然科学基金
关键词
印染废水
光催化降解
废水处理
分类号
X791.03 [环境科学与工程—环境工程]
引文网络
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