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日本大型高密度刻线光栅刻划机概述

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摘要 1.引言 随着同步辐射应用和空间天文学领域的发展,需要高性能高质量的新型光谱仪,而这类光谱仪又要求大面积,高刻划密度的光栅,为此,日本日立有限公司中心研究室研究制成功了大型高密度刻线光栅刻划机。
作者 王春霞
出处 《光机电世界》 1994年第6期1-5,共5页
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