磁带技术的现状与动向

纵观磁记录技术的发展史可知记录密度在不断迅速提高,尤其是面记录密度是以每10年提高10倍的速度向前推进。众所周知,面记录密度是由记录波长与磁迹宽度决定的。就磁带而言,与其有关的主要因素是:由磁带用磁性材料决定的剩磁通密度与矫顽力,由磁带表面粗糙度决定的磁头磁带间隙以及由磁性材料粒子大小起决定作用的磁带杂波。实际上剩磁通密度与矫顽力在适当范围内为大、表面粗糙度和粒子尺寸为小的磁带,其记录密度高。若干年来。