用相位掩模光刻制作光纤内的布拉格光栅

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摘要用相位掩模光刻制作光纤内的布拉格光栅用相位掩模光刻法已把布拉格光栅写入光纤和平面玻璃结构。由加拿大通讯研究中心发展的这种技术通过简化的非全息工艺而用来制作光敏波导内的优质布拉格光栅。相位掩模的作用是使紫外光源相位空间调制，而使光敏玻璃纤维的局部折射率...

出处《国外激光》 CSCD 1994年第6期29-30,共2页

关键词光导纤维布拉格光栅光刻掩模

1孙加兴,叶甜春,陈大鹏,谢常青,伊福庭.用三层胶工艺X射线光刻制作T型栅[J].Journal of Semiconductors,2004,25(3):358-360. 被引量：3
2用干涉光刻制作新型显示元件[J].激光与光电子学进展,1996,33(6):19-19.
3友清.用干涉光刻制作新型显示元件[J].强激光技术进展,1997,7(4):31-32.
4杜春雷,林大键,冯伯儒,孙国良,徐平,郭履容.激光直接光刻制作微透镜列阵的方法研究[J].光学学报,1996,16(8):1194-1196. 被引量：8
5谢常青,陈大鹏,李兵,叶甜春.同步辐射x射线光刻制作深亚微米T形栅[J].微纳电子技术,2002,39(6):39-41.
6Aaron Hand.用多光子光刻制作65nm聚合物结构[J].集成电路应用,2007,24(8):25-25.
7王德强,曹磊峰,谢常青,叶甜春.电子束和X射线光刻制作高分辨率微波带片[J].Journal of Semiconductors,2006,27(6):1147-1150. 被引量：6
8余和军,余金中,陈绍武.An All-E-Beam Lithography Process for the Patterning of 2D Photonic Crystal Waveguide Devices[J].Journal of Semiconductors,2006,27(11):1894-1899.
9孙加兴,叶甜春,谢常青,申云琴,刘刚.多介质工艺X射线光刻制作T形栅[J].真空科学与技术,2002,22(3):239-241. 被引量：1
10杨中月.DUV投影光刻制作T型栅[J].微纳电子技术,2009,46(5):311-313.

国外激光

1994年第6期

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