赴美,日技术考察 二
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1张方明.电子气在使用过程中对保持纯度的要求[J].低温与特气,1984,2(1):47-48.
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2修先运.二氯二氢硅的气相色谱法分析[J].低温与特气,1991,9(2):42-46. 被引量：2
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3梁国仑.国外电子气技术进展及对发展我国特气行业的建议[J].低温与特气,1992,10(4):1-9.
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4尹恩华.气体中的颗粒与金属杂质探讨[J].低温与特气,1992,10(2):8-11. 被引量：1
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5张凤林.电子级高纯氯化氢的研制[J].低温与特气,1990,8(2):32-38. 被引量：6
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6袁艳荣.电子气中微量水的分析[J].低温与特气,1990,8(2):51-56.
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7曾德辉.电子气研制国内、外概况及发展趋势[J].低温与特气,1986,4(2):1-5.
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8彭永清,李建平,尹恩华.无污染进样法分析电子气中的痕量氧[J].低温与特气,1989,7(4):56-58.
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9韩美,田波,林刚,陈晓惠.日本的标准气、电子气、灯泡气和激光气使用现状[J].低温与特气,1998,16(3):1-8. 被引量：2
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10梁国仑.特种气体的现状和开发方向[J].低温与特气,1984,2(4):1-8. 被引量：1
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