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乙二胺铜-铁氰复合修饰电极薄膜的电沉积和结构表征及电化学性质 被引量:2

PREPARATION STRUCTURE AND ELECTROCHEMICAL REACTION OF COPPER ETHYLENEDIAMINE-HEXACYANOFERRATE COMPLEX MODIFIED ELECTRODE
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摘要 乙二胺铜-铁氰复合修饰电极薄膜的电沉积和结构表征及电化学性质陈昌国,李海梅,黄宗卿(重庆大学化工学院重庆630044)关键词:铜、乙二胺,铁氰,修饰电极,光谱普鲁士兰(PB)修饰电极因其独特的电致变色现象而倍受关注。在1978年以来的十余年间里已相继... Copper-ethylenediamine-hexacyanoferrate(Cu(en )HCFe) complex modified electrode filmon Pt was prepard,and its structure was characterized by UV-Vis-IR spectroscopy and X-raydiffraction. The cyclic voltammetric experiment shows that there is a reversible electrochromie reaction in Cu(en)HCFe film at about 0.7V(SCE),as follows:Cu ̄+(en)HCFe(Ⅱ)Cu ̄+(en)HCFe(Ⅲ)+e milky white Light red-brown
出处 《化学研究与应用》 CAS CSCD 1994年第4期47-49,共3页 Chemical Research and Application
关键词 乙二胺铜 铁氰 修饰电极 电沉积 结构表征 Copper,ethylenediamine,hexacyanoferrate,modified film,spectroseopy
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