光电跟踪微机控制机床系统中若干关键量算法的研究

本文是继本刊93年第1期“介绍一种新型的光电跟踪微机控制机床的工作原理”和93年第3期“新型光电跟踪微机控制机床的工作原理及其实现”两篇文章这后，在剖析系统控制软件程序的基础上．对光电跟踪过程中访形曲线的走向角θ、机床纵横向进刀速度Vx、Vy及探头纵横向线圈电流补偿量△Ix、△Iy等关键量算法作进一步研究的文章。至此，读者便会对从西德HeinrichZeidler公司引进的这套光电跟踪微机控制机床系统的工作原理，在硬软件上有一个全面的、透彻的、定性和定量的了解。