国外离子束系统（IBS）发展概况

The Development of Ion Beam System Abroad

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摘要综述了国外离子束刻蚀和沉积系统的研究进展，指出了离子束系统在半导体技术研究、开发和生产中的重要性。 The development of ion beam systems in etching and depositing abroad is summarized.The importance of using IBS for R&D and production is reviewed.

作者田清华

机构地区北京华北光电所

出处《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 1994年第1期9-13,8,共6页 Laser & Infrared

关键词离子束系统刻蚀沉积半导体工业 ion beam system ion source etching deposition

分类号 TN405.985 [电子电信—微电子学与固体电子学]

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激光与红外

1994年第1期

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