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LP-MOVPE生长InGaAs应变超晶格

InGaAs Strained-layer Superlattice Grown by Low Pressure MOVPE
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摘要 本文探讨了LP-MOVPE法在GaAs和InP衬底上生长21个周期的InGaAs/GaAs和20个周期的InGaAs/InP两种应变超晶格的条件,并用X射线衍射分析了这两种应变超晶格,分析观察到三级卫星峰和六级卫星峰。 The present paper cover the conditions for the growth of InGaAs/GaAs andInGaAs/InP strained-layer superlattices by low pressure metalorganic vapor pliase epitaxy.Double and single crystal X-ray diffractions were measured.X-ray double crystal diffractionshwed three-and six-grades satelitte peaks observed separately for the two superlattices.
出处 《吉林大学自然科学学报》 CAS CSCD 1994年第1期72-75,共4页 Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Jilinensis
基金 集成光电子学国家重点联合实验室开放课题
关键词 LP-MOVPE 铟镓砷 应变超晶格 LP-MOVPE, InGaAs, strained-layer superlattice
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