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射频磁控溅射制备铁电PLZT薄膜的研究 被引量:3

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摘要 由于铁电薄膜具有一系列的特殊性质,如铁电开关特性、压电效应、热释电效应、电光和声光效应、非线性光学效应等,因而在微电子学及光电子学领域中得到了广泛的应用,特别是以铁电薄膜为基础的铁电随机存取存储器的开发成功,显示出了高速度、高密度、非挥发性及抗辐射性等优良性能,更进一步促进了对铁电薄膜的研究.同时,由于薄膜制备技术的发展,
出处 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 1994年第13期1177-1179,共3页 Chinese Science Bulletin
  • 相关文献

参考文献2

  • 1卢德新,华中理工大学学报,1994年,22卷,3期,93页
  • 2Li X,Appl Phys Lett,1993年,63卷,2345页

同被引文献9

  • 1卢德新,刘兴阶,胡用时,李佐宜.溅射用铁电陶瓷靶的烧结与显微结构分析[J].华中理工大学学报,1994,22(3):91-94. 被引量:6
  • 2黄龙波,李佐宜,卢德新,付焰峰.溅射制备铁电薄膜及其性能测试的研究[J].人工晶体学报,1994,23(4):291-295. 被引量:7
  • 3卢德新,李佐宜,刘建设,黄龙波,梁俊文.铁电薄膜底电极对薄膜结构与电性能的影响[J].物理学报,1994,43(12):1932-1937. 被引量:6
  • 4Li Xingjiao,Appl Phys Lett,1993年,63卷,16期,2345页
  • 5Jiang Q Y,J Mater Sci,1993年,28卷,16期,4536页
  • 6Xu Yuhuan,Ferroelectric Materials and Their Applications,1991年
  • 7黄龙波,人工晶体学报
  • 8Vinay Chikarmane,Jiyoung Kim,Chandra Sudhama,Jack Lee,Al Tasch,Steve Novak. Annealing of lead zirconate titanate (65/35) thin films for ultra large scale integration storage dielectric applications: Phase transformation and electrical characteristics[J] 1992,Journal of Electronic Materials(5):503~512
  • 9Vinay Chikarmane,Jiyoung Kim,Chandra Sudhama,Jack Lee,Al Tasch,Steve Novak. Annealing of lead zirconate titanate (65/35) thin films for ultra large scale integration storage dielectric applications: Phase transformation and electrical characteristics[J] 1992,Journal of Electronic Materials(5):503~512

引证文献3

二级引证文献4

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