基片加热下准分子激光诱导硅掺硼实验研究

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摘要基片加热下准分子激光诱导硅掺硼实验研究钱育军，童小梅，潘佰良，汪永江（浙江大学物理系，杭州３１００２７）制作ＰＮ结的传统方法是热扩散及离子注入，但装置复杂，步骤繁复。激光有着能量高度集中的优越性，故可以使半导体表面的极浅层迅速熔化，是一种较理想的材料...

作者钱育军童小梅潘佰良汪永江

机构地区浙江大学物理系

出处《量子电子学》 CSCD 1994年第2期31-32,共2页

基金国家自然科学基金

关键词基片加热准分子激光诱导硅掺硼实验

1张健,王庆亚,郑伟,赵方海,张玉书.准分子激光诱导CVD淀积低电阻率SnO_2薄膜[J].吉林大学自然科学学报,1995(4):71-73.
2戴永兵,邹雪城,徐重阳,李兴教,沈荷生,张志明.准分子激光诱导非晶硅晶化制备多晶硅薄膜晶体管[J].微电子学,2000,30(5):343-346. 被引量：5
3祝亚琴,马力,任临福,石景龙,戴国瑞,张玉书.GaAs中准分子激光诱导掺Zn和Si的研究[J].吉林大学自然科学学报,1993(2):77-78.
4史月艳.ITO膜的光谱选择性[J].太阳能学报,1995,16(1):53-58. 被引量：1
5陈根祥,简水生,葛璜,杨玲,李洵,安贵仁,王圩.KrF准分子激光诱导光纤光栅生长特性的研究[J].铁道学报,1996,18(6):8-12.
6闫金良.大尺寸0.55mm ITO透明导电膜玻璃的翘曲度[J].光学技术,2004,30(4):406-408. 被引量：1
7戴永兵,徐重阳,李兴教,安承武.准分子激光诱导下 a-Si : H 膜的电导率异常[J].华中理工大学学报,1998,26(3):5-7.
8杨春山,傅文斌,周璧华.MPCVD中基片加热材料的温度场摄动模型研究[J].电波科学学报,2002,17(5):495-498. 被引量：2
9邹柳娟,夏风,翁惠民,邹道文.慢正电子技术研究ZrO_2(Y_2O_3)薄膜的温度效应[J].华中理工大学学报,2000,28(3):99-101.

量子电子学

1994年第2期

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