用平行板电极装置研究四甲基硅的多光子电离

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摘要用平行板电极装置研究四甲基硅的多光子电离施德恒（空军第一航空学院基础部，信阳４６４０００）本文检测了Ｓｉ（ＣＨ３）４在４１０－３７１ｎｍ内的ＭＰＩ光谱及若干波长点处的激光光强指数，检测并计算了硅原子４ｐ３ｐＪ３Ｐ２３ＰＪ，（Ｊ＇，Ｊ＇＇＝０，１，２）...

作者施德恒

机构地区空军第一航空学院基础部

出处《量子电子学》 CSCD 1994年第2期35-36,共2页

关键词平行板电极装置四甲基硅多光子电离

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4施德恒,刘新建,陆庆正,余枝广,马兴孝,孔繁敖.紫外激光作用下四甲基硅的MPI和硅原子的（2＋1）电离[J].光子学报,1994,23(4):366-371.
5施德恒,能永建,陆庆正,余枝广,马兴孝,孔繁敖.紫激光作用下四甲基硅的MPI和硅原子的（1＋1）电离[J].光子学报,1994,23(3):240-245.
6陆庆正,施德恒,余枝广,马兴孝,孔繁敖.四甲基硅的多光子电离光谱和质谱[J].物理化学学报,1992,8(4):536-539.
7施德恒,李继芳.四甲基硅多光子电离的光谱研究[J].信阳师范学院学报（自然科学版）,1992,5(3):300-310.
8施德恒,刘新建.四甲基硅共振增强多光子电离的质谱的机理研究[J].信阳师范学院学报（自然科学版）,1993,6(1):72-77.
9施德恒,陆庆正,孔繁敖,余枝广,马兴孝.在超声分子束下气相四甲基硅分子的多光子解离与电离[J].原子与分子物理学报,1996,13(4):392-396. 被引量：2
10王树勇,张竹锋.含酚水的电化学氧化[J].太原科技,1999(6):34-35.

量子电子学

1994年第2期

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