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多孔硅形成的实验研究与理论分析

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摘要 本文在很宽的导电范围内对多孔硅(PS)的形成与性质作了系统研究提供了四种不同掺杂的SiHF腐蚀系统的电流一电压特性。对实验结果进行了理论分析。
出处 《辽宁大学学报(自然科学版)》 CAS 1994年第2期94-96,共3页 Journal of Liaoning University:Natural Sciences Edition
  • 相关文献

参考文献1

二级参考文献2

  • 1陈可明,半导体学报,1988年,9卷,435页
  • 2Lin T L,Appl Phys Lett,1986年,49卷,1104页

共引文献6

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