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CBN薄膜的IVD法会成

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摘要 以往研究过用各种气相生长法或反应式真空蒸镀法制作BN薄膜,报道过B、N组成比及高度激活B、N使结晶成长的研究结果。本文介绍用离子照射作为激励方法的效果,以及金属B蒸镀与N离子照射制作BN薄膜的IVD法。 普通的离子束注入技术。
作者 席巧玲
出处 《磨料磨具与磨削》 1994年第1期38-39,共2页
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