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用预阳极氧化结合化学腐蚀形成多孔硅层

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出处 《上海科技大学学报》 1994年第2期137-143,共7页
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参考文献2

  • 1张甫龙,半导体学报,1993年,14卷,139页
  • 2Tsai C,Appl Phys Lett,1991年,59卷,2814页

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