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二氯二氢硅的制备
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1
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摘要
一、前言四氯化硅在半导体工业中作为外延淀积硅源,虽然工艺早已趋于完善,但至今存在无法克服的技术问题,如外延淀积膜不均匀等。有人从硅源的原料进行改革,即以二氯二氢硅来代替四氯化硅,经试验,有如下特点。
作者
杜继勤
机构地区
化工部光明化工研究所
出处
《低温与特气》
CAS
1989年第4期22-25,共4页
Low Temperature and Specialty Gases
关键词
二氯二氢硅
制备
分类号
TQ127.2 [化学工程—无机化工]
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低温与特气
1989年 第4期
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