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SMA106/150自反身射光的排除
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作者
吴熙
谢玖玲
出处
《缩微技术》
1989年第4期40-40,共1页
Journal of Micrographics
关键词
摄影机
缩微摄影机
反射光
排除
分类号
TB853.1 [一般工业技术—摄影技术]
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刘大禾,周静,徐大雄.
特殊条件下描述反射全息图非线性微分方程的解析解[J]
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2
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大分子自组装功能膜的结构及界面层表征[J]
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缩微技术
1989年 第4期
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