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硅片的几何参数及其测试 被引量:1

Geometric Parameters of Silicon Wafer and Its Test and Measurement
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摘要 本文介绍了硅片的加工质量:直径、厚度、平整度、弯曲度、翘曲度等的含意、测量和计算方法,以及其中一些参数之间的关系。最后对硅片激光标记及规范作了概述。 The meaning, measurement and calculating method of the processing qualities of silicon wafers such as diameter, thickness, flexibility and deflection, as well as the relations between some of them are introduced in this articale. The laser symbol of silicon wafer and its standard are outlined briefly also.
作者 江瑞生
机构地区 洛阳单晶硅厂
出处 《上海有色金属》 CAS 1994年第4期217-228,共12页 Shanghai Nonferrous Metals
关键词 硅片 加工质量 几何参数 测试 Silicon wafer, Processing quality, Geometric parameters, Test and measurement
  • 相关文献

同被引文献4

  • 1张志刚.《硅片平整度及其测试》,半导体杂志,1984.6.
  • 2Annual Book of ASTM Standards.
  • 3SEM1 Specification for Polished Monoctystallinv Silicon Wafexs.
  • 4《半导体制造技术》,MichaelQuirk,JulianSerda,电子工业出版社,2004.1.

引证文献1

二级引证文献3

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