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去污上光剂的研制

DEVELOPMENT OF WASHING AND POLISNING AGENT
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摘要 论述了去污上光剂的去污上光原理,配方的选择以及主要技术指标的测定方法。结果表明,去污上光剂表面张力为24.3×10-3N/m,5min后润湿面为14.1°~12. Principle of washing,polishing and selection of make up a prescription were discussed.By using the experimental method we have determined the target of main technique.Results show that surface tension of present agent is low.
出处 《天津轻工业学院学报》 1994年第2期12-14,共3页 Journal of Tianjin University of Light Industry
关键词 表面张力 表面活性剂 去污上光剂 washing,polishing,surface tension,surfactant
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