出处
《电子工业专用设备》
2005年第2期1-2,共2页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
同被引文献59
1 佟军民,胡松,李爱敏,谢常青.衍射光学元件在无掩模光刻中的应用[J] .微细加工技术,2006(5):18-23. 被引量：4
2 王帆,王向朝,马明英,张冬青,施伟杰.光刻机投影物镜像差的现场测量技术[J] .激光与光电子学进展,2004,41(6):33-37. 被引量：12
3 翁寿松.下一代光刻技术的设备[J] .电子工业专用设备,2004,33(10):35-38. 被引量：7
4 张鸿海,胡晓峰,范细秋,刘胜.纳米压印光刻技术的研究[J] .华中科技大学学报（自然科学版）,2004,32(12):57-59. 被引量：12
5 翁寿松,缪彩琴.无掩模光刻技术的前景[J] .电子工业专用设备,2005,34(8):1-3. 被引量：9
6 袁琼雁,王向朝,施伟杰,李小平.浸没式光刻技术的研究进展[J] .激光与光电子学进展,2006,43(8):13-20. 被引量：16
7 [2]Rajesh Menon,Amil Patel,David Chao,et al.Zone-Plate-Array Lithography(ZPAL):Optical Maskless Lithography for Cost-Effective Patterning[A].Emerging Lithographic Technologies IX,Proc.SPIE[C].Sam Jose(USA):SPIE,2005,5 751:330-339.
8 [3]Rajesh Menon,Dario Gil,H.I.Smith.Photon-sieve lithography[J].Optical Society of America,A,2005,22(2):342-345.
9 [4]Heniy I Smith,Amil Patel.a low-cost complement or competitor to scanning-electron-beam lithography[J].Microelectronic Engineering,2006,83:956-961.
10 [5]Dario Gil,Rajesh Menon,H.I.Smith.The case for diffractive optics in maskless lithography[J].The Journal of Vacuum Sciences and Technology,2003,B21(6):2810-2814.
引证文献4
1 佟军民,胡松,李爱敏,谢常青.衍射光学元件在无掩模光刻中的应用[J] .微细加工技术,2006(5):18-23. 被引量：4
2 佟军民,胡松,余国彬.下一代光刻技术[J] .电子工业专用设备,2005,34(11):27-33. 被引量：4
3 袁琼雁,王向朝.国际主流光刻机研发的最新进展[J] .激光与光电子学进展,2007,44(1):57-64. 被引量：39
4 蒋文波,胡松.无掩模光刻技术研究[J] .微细加工技术,2008(4):1-3. 被引量：3
二级引证文献49
1 齐克奇,向阳.光刻物镜波像差检测平台移相装置的研制[J] .光子学报,2012,41(12):1452-1455. 被引量：2
2 蒋文波,胡松.无掩模光刻技术研究[J] .微细加工技术,2008(4):1-3. 被引量：3
3 严伟,胡松,唐小萍,赵立新,杨勇,蒋文波,周绍林,陈旺富.基于DMD的步进式无掩模数字曝光方法及装置[J] .电子工业专用设备,2008,37(10):14-19. 被引量：6
4 单明广,郭黎利,钟志.用于并行激光直写的连续深浮雕衍射透镜阵列研究[J] .光子学报,2009,38(11):2880-2884.
5 赵强,阎绍潭.光刻机精密运动平台的几何及运动误差建模[J] .清华大学学报（自然科学版）,2010,50(2):241-245. 被引量：2
6 单明广,钟志,郭黎利.用于无模光刻的连续浮雕谐衍射透镜阵列设计[J] .光学精密工程,2010,18(1):9-14. 被引量：2
7 李金龙,赵立新,胡松,周绍林.双工件台光刻机中的调平调焦技术[J] .微纳电子技术,2010,47(8):494-498. 被引量：2
8 彭祎帆,袁波,曹向群.光刻机技术现状及发展趋势[J] .光学仪器,2010,32(4):80-85. 被引量：12
9 马冬梅,陈土泉.点衍射波前位相的测评[J] .光学精密工程,2010,18(11):2390-2397. 被引量：10
10 齐克奇.光刻机投影物镜安装方式研究[J] .光机电信息,2011,28(8):22-26.
1 翁寿松,缪彩琴.无掩模光刻技术的前景[J] .电子工业专用设备,2005,34(8):1-3. 被引量：9
2 陈劲松.用于衍射微光学元件制备的无掩模光刻技术[J] .微纳电子技术,2006,43(7):351-354. 被引量：2
3 仲冠丞.下一代光刻技术[J] .科技与企业,2015(13):210-210.
4 佟军民,胡松,余国彬.下一代光刻技术[J] .电子工业专用设备,2005,34(11):27-33. 被引量：4
5 马延琴,杜惊雷.基于空间光调制器的无掩模光学光刻技术研究进展[J] .激光与光电子学进展,2012,49(7):40-46.
6 翁寿松.提高193nm ArF Stepper分辨率的几种技术[J] .半导体行业,2006(2):43-45. 被引量：1
7 翁寿松.193nm浸入式光刻技术独树一帜[J] .电子工业专用设备,2005,34(7):11-14. 被引量：8
8 徐晓东,汪辉.亚65nm及以下节点的光刻技术[J] .半导体技术,2007,32(11):921-925. 被引量：1
9 微电子学、集成电路[J] .中国无线电电子学文摘,2007(4):81-88.
10 严伟,胡松,唐小萍,赵立新,杨勇,蒋文波,周绍林,陈旺富.基于DMD的步进式无掩模数字曝光方法及装置[J] .电子工业专用设备,2008,37(10):14-19. 被引量：6
