CVD成膜技术被引量：1

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摘要ＣＶＤ成膜技术（东芝）茨木伸树森一成１ＴＦＴ制备的关键工艺作为有源矩阵液晶显示的开关元件，从工作原理来看，薄膜晶体管（ＴＦＴ）是最好的。用来形成ＴＦＴ沟道的半导体活性层和栅绝缘膜的化学气相淀积（ＣＶＤ）技术，对器件性能来说的确是关键工艺。半导体活性层...

作者杨基南

出处《微细加工技术》 1994年第1期31-35,共5页 Microfabrication Technology

关键词薄膜晶体管化学气相淀积成膜等离子体

同被引文献11

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微细加工技术

1994年第1期

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