期刊文献+

未来最有希望的硅锗高速微电子器件──埋沟场效应晶体管

原文传递
导出
摘要 以前人们认为异质结双极型晶体管是硅锗新材料在微电子器件方面的最重要应用。根据最新的信息,指出这一器件具有很大的局限性,而正在崛起的硅锗MOS场效应晶体管有可能是未来最有希望的高速器件。叙述了这种器件的物理基础、典型结构及性能。
出处 《物理》 CAS 北大核心 1994年第2期87-93,共7页 Physics
  • 相关文献

参考文献2

  • 1Chun S K,IEEE Trans ED,1992年,39卷,9期,2153页
  • 2Chen S J Y,IEEE Trans ED,1987年,34卷,19页

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部