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W／C超薄多层膜的制备及其结构与光学特性分析 被引量：5

FABRICATION AND CHARACTERIZATION OF SPUTTERED W/C MULTILAYER MIRROR FOR SOFT X-RAY
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摘要 利用平面磁控溅射技术，制备了Ｗ／Ｃ超薄多层膜样品。低角Ｘ射线衍射测试、透射电子显微镜显微剖面分析给出了该样品的结构参数，由这些结构参数模拟给出的光学特性与实测的１．４７ｎｍ的绝对反射率角谱有较一致的表现。 AbstractW/C multilayer mirror for 4.47nm had been fabricated by planar magnetronsputtering.Using small angle X-ray,transmission electon microscopy cross-sectionanalysis and 4.47nm absolute reflectivity measurement techniques,the structrure andoptical properties of this multilayer had been characterized.
作者 邵建达 范正修 殷功杰 易葵 袁利祥
机构地区 中国科学院上海光学精密机械研究所
出处 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1994年第12期2016-2022,共7页 Acta Physica Sinica
关键词 磁控溅射 W/C多层模 薄膜 制备 光学特性
分类号 O484.41 [理学—固体物理] TN304.055 [电子电信—物理电子学]
  • 相关文献

参考文献5

  • 1殷功杰，中国激光，1993年，20卷，900页
  • 2范正修，中国激光，1992年，19卷，74页
  • 3邵建达，中国激光，1991年，18卷，171页
  • 4郭永洪，硕士学位论文，1991年
  • 5邵建达，物理学报

同被引文献80

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引证文献5

二级引证文献18

物理学报
1994年 第12期

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