磁光记录用稀土－过渡族金属合金非晶薄膜的研究

本文采用射频磁控溅射技术和镶嵌靶，在宽的成分范围制备了不同厚度（３０～７００ｎｍ）、均匀的ＧｄＴｂＦｅＣｏ四元合金非晶薄膜。用透射电镜系统地研究了溅射气体氩气压力和射频功率对ＧｄＴｂＦｅＣｏ合金薄膜显微结构和形貌的影响，并用自制的旋转检偏器装置测量了不同条件下沉积的ＧｄＴｂＦｅＣｏ薄膜的克尔磁光旋转角。实验结果表明，沉积条件对ＧｄＴｂＦｅｃＯ合金薄膜的显微结构、磁光性能及环境稳定性有显著的影响。因此，通过调整溅射工艺参数能够制备无网状结构的ＧｄＴｂＦｅＣｏ合金薄膜，从而能改善磁光性能和环境稳定性。