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室温红外探测用VOx薄膜的工艺研究

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摘要 用反应溅射法制备了VOx薄膜。利用XPS分析技术,研究了薄膜组分与氧分压、基片材料、沉积厚度等工艺条件的关系。结果表明本工艺得到V2O5、VO2、V2O3复相膜,氧气流量大和较厚薄膜容易获得高价态V,衬底表面吸附氧会改变薄膜组分,V2O5、VO2含量高的薄膜电阻温度系数相对较高,V2O3不利于红外探测。
出处 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2005年第B03期94-95,100,共3页 Semiconductor Optoelectronics
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参考文献9

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二级参考文献23

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