硅衍射微透镜阵列的制作技术研究

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摘要介绍了二元光学方法制作多台阶衍射微透镜的设计和工艺过程；分析了台阶侧壁倾斜对衍射效率的影响；提出了一种基于软刻蚀技术的复制和集成新工艺。实际制作了8台阶硅衍射微透镜阵列，利用新工艺复制了硅衍射透镜阵列。

作者赖建军赵悦柯才军周宏易新建翁雪涛熊平

机构地区毕中科技大学光电子工程系重庆光电技术研究所

出处《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2005年第B03期106-110,114,共6页 Semiconductor Optoelectronics

关键词衍射微透镜干法刻蚀二元光学软刻蚀紫外模塑

参考文献11

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半导体光电

2005年第B03期

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