原子尺度图像可对SiN特性进行预测

美国橡树岭国家试验室报道，他们实现了一种成像技术，其分辨率可达世界记录的0．007nm，可观察到氮化硅陶瓷中原子的优先占据位置。氮化硅的图像是在ORNL300kWZ衬度扫描透射电镜上取得的。由于采用了像差校正技术，电子透镜缺陷带来的误差，可由计算机予以修正。研究人员发现，原子尺度上的图像与理论计算的预测大致是精确的。特定原子在晶体中的位置主要决定着材料的特性。