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硅烷及其杂质的气相色谱分析 被引量：2

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摘要 制备多晶硅时，用液氨法在低温下产生的硅烷，除主成份SiH4外，尚含H2、微量NH3、Si2H6、CH4、H2O、O2、N2、PH3，以及痕量的B2H8和AsH3等杂质，而其中有些杂质，如CH4、H2O、N2等，主要由液氨带入。因此，要加强原材料的分析，严格监控工艺过程中硅烷气内的有害杂质，采取必要的纯化措施。这样，将大大提高由分解炉中析出的多晶硅质量。
作者 陈澄清
机构地区 广州半导体材料研究所
出处 《低温与特气》 CAS 1985年第2期40-42,共3页 Low Temperature and Specialty Gases
关键词 气相色谱分析 硅烷 SIH4 AsH3 有害杂质 工艺过程 多晶硅 CH4 H2O 液氨法 主成份 NH3 PH3 原材料 分解炉 N2 低温
分类号 O657.71 [理学—分析化学] TQ325.12 [化学工程—合成树脂塑料工业]
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二级引证文献8

低温与特气
1985年 第2期

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