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硅烷及其杂质的气相色谱分析
被引量:
2
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摘要
制备多晶硅时,用液氨法在低温下产生的硅烷,除主成份SiH4外,尚含H2、微量NH3、Si2H6、CH4、H2O、O2、N2、PH3,以及痕量的B2H8和AsH3等杂质,而其中有些杂质,如CH4、H2O、N2等,主要由液氨带入。因此,要加强原材料的分析,严格监控工艺过程中硅烷气内的有害杂质,采取必要的纯化措施。这样,将大大提高由分解炉中析出的多晶硅质量。
作者
陈澄清
机构地区
广州半导体材料研究所
出处
《低温与特气》
CAS
1985年第2期40-42,共3页
Low Temperature and Specialty Gases
关键词
气相色谱分析
硅烷
SIH4
AsH3
有害杂质
工艺过程
多晶硅
CH4
H2O
液氨法
主成份
NH3
PH3
原材料
分解炉
N2
低温
分类号
O657.71 [理学—分析化学]
TQ325.12 [化学工程—合成树脂塑料工业]
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低温与特气
1985年 第2期
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