几种特气在半导体工艺中的应用

在半导体工艺中，如低压化学气相沉积法（LCVD）制备多晶硅和氮化硅薄膜，以及等离子刻蚀等工艺，都要使用特种气体。有些特种气体我国已有生产，如氨气、氯化氢。有些特种气体在半导体工艺中很有用途，但到目前为止，还没有生产单位，或质量没有过关。现介绍我所在半导体工艺中需用的几种特种气体。