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硅烷系废气的高效处理方法被引量：1

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摘要将从半导体制造设备排出的含有硅烷系气体的废气通过以固体金属氧化物为主要成分的填料层,高效率地除去该硅烷系气体,至少使浓度降低到0.5ppm以下。

作者齐藤纯尹恩华刘懋才

机构地区不详光明所中国科学院半导体材料研究所

出处《低温与特气》 CAS 1986年第2期49-53,共5页 Low Temperature and Specialty Gases

关键词硅烷系废气常压法减压法金属氧化物

分类号 X701.7 [环境科学与工程—环境工程]

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低温与特气

1986年第2期

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