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SiH_4的制造方法
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摘要
SiH4历来用作制造半导体用多晶硅、外延膜生长、硅器件钝化膜和聚硅膜等的原料气。目前,以发现非晶硅(a-Si:H)为契机,有关SiH4的应用研究就活跃起来了。而且,非晶硅的一部分已作为非晶形太阳电池和静电复印机用的感光磁鼓出售,体现了对SiH4的一部分需要。
作者
八(金刄)吉文
林良一
韩美
出处
《低温与特气》
CAS
1986年第4期20-25,共6页
Low Temperature and Specialty Gases
关键词
SIH4
制造方法
静电复印
太阳电池
非晶硅
多晶硅
半导体
膜生长
原料气
钝化膜
硅器件
非晶形
分类号
TB852.25 [一般工业技术—摄影技术]
TN304.2 [电子电信—物理电子学]
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低温与特气
1986年 第4期
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