摘要
设计了消色差的折/衍混合微光学元件的灰阶掩模,该掩模对光刻过程中的畸变进行了预校正,并给出了模拟计算的的结果。
A gray-tone mask according to an achromatic hybrid micro-optics element is designed, and it pre-corrects the aberration in the process of lithography. The simulation results are presented.
出处
《光学与光电技术》
2005年第2期48-50,共3页
Optics & Optoelectronic Technology
关键词
混合光学
灰阶编码
消色差
hybrid optics
gray-tone coding
achromaticity