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灌封CMOS/SOS电路的抗辐照性能探讨
A Study on the Performance of Radiation Tolerance for an Embedded CMOS/SOS IC
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摘要
开帽器件借助于软X射线、可见光和紫外光相结合的辐照实验,可鉴别工艺对器件抗辐照性能的影响。实验结果表明:利用适当填料对器件进行灌封,可改善器件的抗辐照性能。
作者
杨建鲁
机构地区
四川固体电路研究所
出处
《微电子学与计算机》
CSCD
北大核心
1989年第12期38-39,共2页
Microelectronics & Computer
关键词
CMOS/SOS
辐照
开帽器件
灌封
分类号
TN432 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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微电子学与计算机
1989年 第12期
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