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在硅和硬质合金基体上金刚石薄膜生长研究

GROWTH OF DIAMOND FILMS ON Si AND WC-Co SUBSTRATE
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摘要 在硅和硬质合金基体上,用热丝CVD法生长出金刚石薄膜。利用X衍射、拉曼谱和扫描电镜对金刚石薄膜的结构形貌进行了检测,并与天然金刚石对比分析。 The paper describes the synthesis of diamond films on the silicon and the hard alloy substrate by hot filament CVD technique. The crystal structure diamond films and the inclusion of the amorphous carbon of the deposited films are analyzed by X-ray diffraction, Raman spectroscopy, and scanning electron microscopy (SEM). The results are compared with the given valus of natural diamond crystal. The comparative result is most satisfactory.
出处 《真空科学与技术》 EI CAS CSCD 1994年第4期246-249,共4页 Vacuum Science and Technology
基金 国家科委工业科技司新材料处资助
关键词 金刚石薄膜 DF材料 硬质合金 热丝CVD法 Diamond films, Hot filament technique, Si and WC-Co substrate,Acetone steam
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